被照射シリコンの除染方法
著者:O.G.チェルニコフ、E.K.ゴルブノフ、L.V.シュマコフ、K.G.クドリャフツェフ、K.V.グリゴリイェフ、G.A.チュマチェンコ、V.I.ザイカ、A.N.フルソフ
典拠:特許、08.16.2006、ソスノヴィ・ボル 特許所有者:ロシア原子力発電コンツェルン「ロスエネルゴアトム」
キーワード:シリコン、除染、アルカリ溶液、シュウ酸溶液
概要:本発明は被照射シリコンの除染に特化するもので、発電原子炉の工業的生産分野に応用できる。水酸化ナトリウムを含有する酸化アルカリ溶液と、シュウ酸溶液を用いた連側的な二段階プロセスでは、過酸化水素をベースとした酸化溶液が使用される。第二段階は、第一段階終了後5÷30分以内に実行される。
URL: http://www.findpatent.ru/patent/233/2332732.html
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