被照射シリコンの除染方法

著者：Ｏ．Ｇ．チェルニコフ、Ｅ．Ｋ．ゴルブノフ、Ｌ．Ｖ．シュマコフ、Ｋ．Ｇ．クドリャフツェフ、Ｋ．Ｖ．グリゴリイェフ、Ｇ．Ａ．チュマチェンコ、Ｖ．Ｉ．ザイカ、Ａ．Ｎ．フルソフ

典拠：特許、０８．１６．２００６、ソスノヴィ・ボル　特許所有者：ロシア原子力発電コンツェルン「ロスエネルゴアトム」

キーワード：シリコン、除染、アルカリ溶液、シュウ酸溶液

概要：本発明は被照射シリコンの除染に特化するもので、発電原子炉の工業的生産分野に応用できる。水酸化ナトリウムを含有する酸化アルカリ溶液と、シュウ酸溶液を用いた連側的な二段階プロセスでは、過酸化水素をベースとした酸化溶液が使用される。第二段階は、第一段階終了後５÷３０分以内に実行される。

URL: http://www.findpatent.ru/patent/233/2332732.html

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